-
脉冲激光沉积系统Pioneer 120 PLD System
独立的交钥匙PLD系统。 外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积。 纳米级薄膜的沉积。 外延氧化膜沉积的可编程氧兼容加热器。 自动多目标旋转多层沉积。 全干式真空泵组。 通过系统软件进行闭环压力控制。
-
高级脉冲激光沉积系统 Pioneer 120 Advanced PLD System
Neocera Pioneer 系列 PLD 系统— 基于卓越经验的创新设计。 Neocera 利用PLD 开展了深入广泛的研究,建立了获得最佳薄膜质量的临界参数,特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。
-
脉冲激光沉积系统Pioneer 180 PLD System
Pioneer 180 PLD系统是一款用于在各种衬底上制备多种材料的高质量外延薄膜、多层异质结构和超晶格的交钥匙PLD系统。
-
脉冲激光沉积系统 Pioneer 180 MAPLE PLD
-
组合型脉冲激光沉积系统 Combinatorial PLD System
-
激光脉冲沉积系统(PLD)
deposition in oxygen atmosphere -铁磁 / 电介体 / 磁阻抗材料沉积技术参数: 腔形状 : 球面型 样品尺寸 : ~ 2inch, 单片 wafer 加热
-
离子辅助脉冲激光沉积系统 Ion-Assisted PLD System
离子辅助沉积已经成为在无规取向的基片或非晶衬底上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术。Neocera 开发了离子辅助的 PLD 系统,该系统将 PLD 在沉积复杂材料方面的优势与 IBAD 能力结合在一起。
-
脉冲激光沉积系统(PLD)
-
脉冲激光沉积系统(PLD)
仪器简介: PLD是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上,靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态,然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法
-
PLD脉冲激光沉积系统-SVT
美国SVT公司PLD脉冲激光沉积系统用于沉积金属薄膜,氧化物薄膜,多元素材料薄膜的脉冲激光沉积系统,可以与多种薄膜制备设备连用。凭借多年的科研与实践经验,我公司为许多科研用户独立打造了
想在此推广您的产品吗?
咨询热线: 010-84839035
联系邮箱: sales@antpedia.net